如何让光刻机快速升级
胡良
深圳市宏源清实业有限公司
摘要：由于光子（具有波粒二象性）会发生衍射，导致光束聚焦受到限制；这意味着，光刻机将受到光学衍射极限的限制。可让光子的波长进一步降低（频率增高），让光子具有完全相同的波长及相位，从而提高光源的质量。
关键词：光子，光刻机，芯片，辐射，光刻胶
作者：总工，高工，硕士，副董事长
1引言
由于光子（具有波粒二象性）会发生衍射，导致光束聚焦受到限制；这意味着，光刻机将受到光学衍射极限的限制。值得注意的是， 对于半导体产业来说，光刻机是最关键设备。
2光刻机的逻辑
半导体芯片的生产流程，分为 IC设计，IC 制造及IC封测。具体来说， IC设计是根据芯片的应用场景，采用相应的逻辑及规则，并制作相应的掩模。IC 制造是让掩模上的芯片电路图转移到硅片上；包括光刻，蚀刻，离子注入，薄膜沉积及研磨等。IC 封测是对芯片封装及性能测试。
而光刻又是半导体芯片生产的关键环节。其工艺原理是在硅片表面覆盖一层光刻胶（具有极高光敏感属性），用光子（高频属性）透过掩模辐射到硅片表面，从而让被光子辐照射到的光刻胶发生反应；再采用专用的溶剂洗去光刻胶， 达到电路图从掩模转移到硅片的目标。最后，对没有光刻胶保护的硅片部分进行刻蚀（干法刻蚀或湿法刻蚀），洗去剩余光刻胶， 就完成了半导体器件在硅片表面的构建。
3如何让光刻机快速升级
光刻机的组件包括，激光器，光束矫正器，辐射能量控制器，光束形状控制器及遮光器等。
光刻机的最小分辨率可表达为： R=k*（λ /NA），其中，
R ，可分辨的最小尺寸，量纲是，[L^(1)T^(0)]；
k，工艺常数，量纲是，[L^(0)T^(0)]；
λ ，光刻机所用光源的波长，量纲是，[L^(1)T^(0)]；
NA，物镜数值孔径，量纲是，[L^(1)T^(0)]。
可见，提高光子频率（降低光子波长），改善材料及镜头等，才能将曝光尺寸降低。
而光源的改进又是关键，根据量子三维常数理论，h*C=Vp*C^(3)，可让光子的波长进一步降低（频率增高）；同时，让光子具有完全相同的波长及相位，从而提高光源的质量。
光子（量子）与背景空间（环境）构成一个整体（相互纠缠）；因此，改变背景空间（环境）就能够同时改变光子的量子效应。